ساخت نانوخط کش با دقت يک فتومتر
ساخت نانوخط کش با دقت يک فتومتر
مؤسسه‌ي ملي استاندارد و فناوري، خط‌کش جديدي را ارائه کرده که از نظر دقت صاحب رکورد شده‌است. اين خط‌کش جديد علاوه بر استفاده به‌عنوان متر در اندازه‌گيري‌هاي نانومقياس، قابليت به‌کارگيري به‌عنوان ابزار کاليبراسيون براي کاليبره کردن پراش اشعه‌ي ايکس را نيز دارد. دقت اين خط‌کش يک فتومتر، يعني چيزي در حدود اندازه‌ي يک نوترون، است.
اين خط‌کش جديد به شکل تراشه‌ي نازک به مساحت 25 ميلي‌متر مربع (کمتر از يک اينچ) بوده که به تأييد مؤسسه‌ي ملي استاندارد و فناوري رسيده‌است.
پراش اشعه‌ي ايکس از برخورد پرتوي ايکس با صفحات بلوري مواد ايجاد مي‌گردد. مواد مورد آزمايش مي‌تواند يک ويفر باشد که از آن در ساخت تراشه‌ها استفاده مي‌شود يا پروتئين ناشناخته‌اي که متبلور شده‌است. فاصله‌ها، زوايا و شدت الگو‌هاي ايجادشده در پراش اشعه‌ي ايکس به يک متخصص بلورشناس اطلاعات ارزشمندي را از نحوه‌ي قرارگيري اتم‌ها در شبکه‌ي بلور، کيفيت بلور، جنس پيوندهاي شيميايي آن و... مي‌دهد.
پراش اشعه‌ي ايکس يکي از روش‌هاي بسيار کاربردي در مهندسي و علم مواد است. نسخه‌هاي پراش اشعه‌ي ايکس با دقت و بزرگ‌نمايي بالا را مي‌توان براي شناسايي ضخامت، ساختار بلور، تعيين فشارهاي داخلي، همچنين يافتن جهت‌گيري لايه‌هاي نازک مورد استفاده در ادوات داراي نيمه‌هاي پيشرفته يا فناوري نانو به کار برد.
مؤسسه‌ي ملي استاندارد و فناوري اين خط‌کش را به‌عنوان ابزار بسيار دقيقي براي کاليبره کردن ابزارهاي دقيق در اختيار بلورشناسان قرار مي‌دهد. علاوه بر اين، اين مؤسسه با توسعه‌ي يک دستگاه پراش‌دهنده توانسته‌است زوايا را با دقت بسيار بالايي اندازه‌گيري کند. دقت اين دستگاه اندازه‌گيري زاويه‌ي بيشتر از 3600/ 1 درجه است که يک رکورد محسوب مي‌گردد. دقت اين دستگاه به اندازه‌ي قطر دايره‌اي است که شما از فاصله‌ي 2 مايلي ( تقريبا 3 کيلومتري) به آن نگاه کنيد.
منبع:http://www.nano.ir
