Rez@ee
17th May 2011, 01:59 PM
دانشمندان سوئیسی تکنیک جدیدی را ارائه کردند که می تواند از یک ماده ارزان و در دسترس هیدروژن تولید کند و فتوسنتز مصنوعی را در سطوح صنعتی توسعه دهد.
محققان دانشگاه پلی تکنیک لوزان تکنیکی را ارائه کردند که به اکسید مس اجازه می دهد حتی در آب نیز خواص نیمه هادی خود را حفظ کند و به عنوان یک ماده اقتصادی و در دسترس برای تولید مستقیم هیدروژن مورد استفاده قرار گیرد.
این کشف به بهبود اثربخشی پیلهای فتوالکتروشیمیایی که برای تولید هیدروژن از آب استفاده می شوند کمک می کند.
پیلهای فتوالکتروشیمیایی نور خورشید را به انرژی قابل استفاده برای تولید واکنشهای شیمیایی تبدیل می کنند. این عمل را گیاهان در فرایند فتوسنتز به طور طبیعی انجام می دهند.
این فرایند به صورت مصنوعی از طریق نیمه هادیهای حساس به نور از جمله اکسید مس انجام می شود و برق لازم برای تامین انرژی واکنشها را تولید می کند، اما مشکل استفاده از این نوع اکسید در تولید مستقیم هیدروژن از آب در این است که این ماده خواص نیمه هادی خود را در آب از دست می دهد.
براساس گزارش نیچر مواد، اکنون این محققان تکنیکی را توسعه دادند که اجازه می دهد لایه های اکسید روی و اکسید تیتان با قطر تک اتمی بر روی سطح اکسید مس تکنیکی نشست کنند. به این ترتیب می توان قطر لایه محافظ را بر روی تمام سطح اکسید مس کنترل و پایداری نیمه هادی را برای تولید هیدروژن تضمین کرد.
مزیت این تکنیک در استفاده از مواد ارزان و در دسترس است که تولید مقادیر بالای هیدروژن در سطوح صنعتی را امکانپذیر می کند.
محققان دانشگاه پلی تکنیک لوزان تکنیکی را ارائه کردند که به اکسید مس اجازه می دهد حتی در آب نیز خواص نیمه هادی خود را حفظ کند و به عنوان یک ماده اقتصادی و در دسترس برای تولید مستقیم هیدروژن مورد استفاده قرار گیرد.
این کشف به بهبود اثربخشی پیلهای فتوالکتروشیمیایی که برای تولید هیدروژن از آب استفاده می شوند کمک می کند.
پیلهای فتوالکتروشیمیایی نور خورشید را به انرژی قابل استفاده برای تولید واکنشهای شیمیایی تبدیل می کنند. این عمل را گیاهان در فرایند فتوسنتز به طور طبیعی انجام می دهند.
این فرایند به صورت مصنوعی از طریق نیمه هادیهای حساس به نور از جمله اکسید مس انجام می شود و برق لازم برای تامین انرژی واکنشها را تولید می کند، اما مشکل استفاده از این نوع اکسید در تولید مستقیم هیدروژن از آب در این است که این ماده خواص نیمه هادی خود را در آب از دست می دهد.
براساس گزارش نیچر مواد، اکنون این محققان تکنیکی را توسعه دادند که اجازه می دهد لایه های اکسید روی و اکسید تیتان با قطر تک اتمی بر روی سطح اکسید مس تکنیکی نشست کنند. به این ترتیب می توان قطر لایه محافظ را بر روی تمام سطح اکسید مس کنترل و پایداری نیمه هادی را برای تولید هیدروژن تضمین کرد.
مزیت این تکنیک در استفاده از مواد ارزان و در دسترس است که تولید مقادیر بالای هیدروژن در سطوح صنعتی را امکانپذیر می کند.